第232章 美柚轰动全网，雷布斯的出路（1/7）
虽然芯片工厂问题不大，有帝都提供，王逸可以省下几十亿。
但里面的生产线，光刻机等设备，都要王逸自己解决。
这些才是最贵的，保守估计后续投入也得一百五十亿起步。
像是光刻机，2010年阿斯麦就推出了光刻机 :3100。
前世，2013年阿斯麦又推出光刻机 :3300。
不过这些先进的光刻机，王逸就不考虑了，不现实，不可能对内地企业出售的。
前世中芯国际订购了一台光刻机，花了2亿美金，钱都付了，最后因为帝国阻挠，阿斯麦也迟迟没有发货。
相反，内地企业能买到的，也就是落后很多代的光刻机。
比如2016年出的 1980i，是前世内地企业买到的最先进光刻机之一，也是中芯国际主力机型。
更先进的光刻机:2000i，都买不到，更别说:2050i。
1980i原本用于制造300nm-38nm制程，二重曝光后可以达到19nm制程。
中芯国际，华力等企业，都是用 1980i二重曝光，量产28-19nm的芯片。
同样，要用 :1980i来制造14nm、7nm的芯片，那就得靠多重曝光技术，对厂家的技术要求非常高，量产芯片的成本也很高。
最初，台积电用:1980i来制造7nm芯片，效果很不理想，良品率低，成本高，最后还是换上光刻机，才实现了完美的7nm。
但中芯国际买不到光刻机，只能硬着头皮用 1980i进行三重曝光，四重曝光，甚至五重曝光。
幸好梁老能力突出，在多重曝光领域造诣颇深，硬是推出+1、+2工艺，用 1980i这种落后的光刻机，实现了14nm、10nm，甚至7nm。
梁老的两重曝光技术，不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上，成本也不会增加太多。
使得中芯国际的28nm工艺大规模量产，能满足大多数芯片需求。
14nm需要三重曝光，凭借梁老的技术，良品率和成本也能保证。
可7nm制程，就要用 1980i四重曝光，技术方面梁老都能解决，但良品率和成本就不好说了。
巧妇难为无米之炊。
拿着 1980i当3300用，真是太强人所难。
不过，在国产光刻机突破之前，这也是迫不得已的办法。
当然，2011年 1980i还没有发布。
王逸当下能买到的光刻机型号，是2009年推出的：1950i，和今年刚推出的：1960i。
其实1950i/1960i/1970ci/1980i，这四款光刻机都是同样的光源系统，单次曝光都在38nm以上，多重曝光都能生产28nm、16nm、14nm、12nm，甚至7nm。
后续的：1960i、1970i、1980i，不过是在：1950i进行了部分升级，提高了良品率和精度，本质上相差不大。
像是三星台积电的未来几年的28nm、22nm、20nm、16nm、14nm、10nm，很多都是用的：1950i！
毕竟三星、台积电2016年量产10nm芯片的时候，：1980i光刻机才开始量产！
7nm之前的制程，三星台积电用的都是1950i、1960i、1970i等老型号。
只要不量产7nm，都没压力。
同样，王逸的12英寸晶圆厂，若是买到：1950i和1960i，也能从明年的28nm，一直用到22nm、20nm、16n
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